技術(shù)編號(hào):3287491
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種層疊膜,其是具備基材和形成于所述基材的至少一個(gè)表面上的至少一層的薄膜層的層疊膜,所述薄膜層當(dāng)中的至少一層含有硅、氧及氫,基于所述薄膜層的在29Si固體NMR測(cè)定中求出的、與氧原子的鍵合狀態(tài)不同的硅原子的存在比,Q1、Q2、Q3的峰面積相加而得的值相對(duì)于Q4的峰面積的比滿足下述條件式(I)(Q1、Q2、Q3的峰面積相加而得的值)/(Q4的峰面積)<1.0…(I)Q1與一個(gè)中性氧原子及三個(gè)羥基鍵合的硅原子,Q2與兩個(gè)中性氧原子及兩個(gè)羥基鍵合的硅原...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。