技術(shù)編號：3286703
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種用于化學(xué)機械拋光設(shè)備的清洗裝置，其特點是，包含殼體、間隔設(shè)置在殼體上的一排多個噴頭；所述噴頭包含用于向晶片噴水的直噴頭和用于向化學(xué)機械拋光設(shè)備頂蓋內(nèi)壁噴水的彎噴頭；各所述噴頭通過水管與外部的進水管連接。所述直噴頭垂直設(shè)置在殼體上。所述彎噴頭折彎成一鈍角。各所述彎噴頭設(shè)為出水口方向不同。本發(fā)明設(shè)置在化學(xué)機械拋光設(shè)備的各拋光臺的相鄰位置。本發(fā)明能夠在清洗晶片的同時對化學(xué)機械拋光設(shè)備的頂蓋內(nèi)壁進行清洗，以使其一直保持濕潤狀態(tài)，拋光過程中噴濺到頂蓋...
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