技術(shù)編號(hào):3279559
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種處理裝置,該處理裝置例如對(duì)半導(dǎo)體晶片等的被處理體供給處理氣體進(jìn)行成膜處理等,本發(fā)明還涉及一種處理(process)狀態(tài)的確認(rèn)方法,其用于在該處理裝置中,確認(rèn)處理的狀態(tài),檢測(cè)異常或避免異常。背景技術(shù)半導(dǎo)體裝置的制造過(guò)程中,對(duì)半導(dǎo)體晶片等的被處理體反復(fù)進(jìn)行成膜處理、刻蝕處理、熱處理、改性處理等的各種處理。例如已知,基于CVD(Chemical Vapor Deposition、化學(xué)氣相沉積)法的成膜,該成膜方法中,在半導(dǎo)體晶片的表面形成薄膜時(shí),在...
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