技術(shù)編號：3267000
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及真空鍍膜生產(chǎn)設(shè)備，尤其是涉及多弧離子鍍膜機(jī)的引弧針。背景技術(shù)隨后出現(xiàn)有物理氣相沉積(PVD)技術(shù)，主要是在真空環(huán)境下進(jìn)行表面處理，物理氣相沉積本身分為三種真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜，近十年來發(fā)展相當(dāng)快，已經(jīng)成為當(dāng)今最先進(jìn)的表面處理方式之一。真空離子鍍膜是通過離子鍍膜機(jī)上的引弧針觸碰靶材產(chǎn)生放電來實(shí)現(xiàn)，而現(xiàn)有技術(shù)中，引弧針觸碰靶材的動作主要是由人工驅(qū)動，該結(jié)構(gòu)存在觸靶和脫離不穩(wěn)定，觸靶時間受人為因素影響很大，從而導(dǎo)致引弧針與靶材燒結(jié)...
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