技術(shù)編號：3263923
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及磁控濺射鍍膜，尤其涉及一種多功能連續(xù)式磁控濺射鍍膜裝置。背景技術(shù)磁控濺射鍍膜技術(shù)是當(dāng)前廣泛應(yīng)用的真空鍍膜技術(shù)方法，被普遍應(yīng)用于光學(xué)、微電子、耐磨、耐蝕、裝飾等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域，用以提供可靠而穩(wěn)定的薄膜鍍層，可為被鍍膜產(chǎn)品提供某方面特定性能。比如在玻璃表面鍍一層ITO薄膜，可以形成透明導(dǎo)電玻璃，用以生產(chǎn)LCD顯示器、觸摸屏等。磁控濺射技術(shù)主要通過在濺射靶上的電場在稀薄氣體狀態(tài)下激發(fā)等離子體，通過磁場和電場的聯(lián)合控制下使正離子轟擊安裝在祀上的被派射祀材，使祀...
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