技術(shù)編號：3259901
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明關(guān)于一種金屬薄膜的沉積設(shè)備，尤其是一種。背景技術(shù)在液晶顯示面板、等離子顯示面板或是半導(dǎo)體的微型電路的工藝中，為了制作出各形狀的金屬線或是金屬接點(diǎn)，制造者需要將金屬薄膜形成于基板上。一般來說，將金屬薄膜形成于基板上的方法可分為物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,簡稱PVD)方法以及化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition,簡稱CVD)方法。其中，PVD法主要可分為濺鍍(Sputtering)法、電阻...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。