技術(shù)編號：3252902
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜的制備方法，特別是采用鋯靶和鈦鋁靶組合靶制備多弧離子鍍氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜的方法，比如氮化鋯鈦鋁氮梯度硬質(zhì)反應(yīng)膜(以下使用"ZrTiAIN"來代替"氮化鋯鈦鋁")的制備方法。 背景技術(shù)多弧離子鍍是一種設(shè)有多個可同時蒸發(fā)的陰極弧蒸發(fā)源的真空物理沉積技術(shù)，具 有沉積速度快、膜層組織致密、附著力強、均勻性好等顯著特點。該技術(shù)適用于硬質(zhì)膜及硬 質(zhì)反應(yīng)梯度膜的制備，并在氮化鈦，氮化鈦鋁以及更多元的硬質(zhì)反應(yīng)膜的制備方面獲得成 功應(yīng)用。氮化鈦鋁...
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