技術(shù)編號：3252876
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。基片冷卻裝置本實(shí)用新型涉及一種基片冷卻裝置，特別涉及一種用于在鍍膜工藝中對鍍 膜基片進(jìn)行快速冷卻的基片冷卻裝置。背景技術(shù)在鍍膜工藝中，特別是在多層鍍膜工藝中， 一般都要求在中間過程中對基 片進(jìn)行快速冷卻，以便防止膜層高溫曝露在大氣中或者工藝引起基片反常升溫而造成膜層損壞。眾所周知，熱量傳播方式有三種輻射、傳導(dǎo)和對流。由于 真空鍍膜過程中分子極度稀薄，對流帶走的熱量也極少。再由于基片與冷卻板 之間的溫差不是太高，所以輻射傳熱也很少。由于依靠輻射和對流的方式在...
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