技術(shù)編號：3251732
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及高純度稀土金屬的構(gòu)件，特別是具有極高的表面純度的稀土金屬構(gòu)件和具有螺紋槽的稀土金屬構(gòu)件。更具體而言，本發(fā)明涉及完全由可耐受鹵素基腐蝕性氣體或其等離子的腐蝕的稀土金屬構(gòu)成的稀土金屬構(gòu)件，從而這些構(gòu)件適用于半導體制造設(shè)備和諸如LC、有機EL和無機EL制造設(shè)備的平板顯示器制造設(shè)備；和其制備方法。背景技術(shù) 半導體制造設(shè)備和諸如LC、有機EL和無機EL制造設(shè)備的平板顯示器制造設(shè)備使用鹵素基腐蝕性氣氛。為了防止工件受到雜質(zhì)污染，這些設(shè)備的部件由高純度材料制成...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。