技術(shù)編號(hào):3249414
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及通過(guò)物理方法使用低壓電弧蒸發(fā)物體涂層材料的裝置,這樣的裝置配備有磁場(chǎng)源和電弧的陽(yáng)極和陰極。背景技術(shù) 使用物理方法用于硬涂層沉淀,即物理汽相淀積(PVD)的各種裝置是公知的。使用低壓電弧用于粒子的蒸發(fā)的技術(shù)是公知的,這些粒子在氣體環(huán)境下在待被涂覆的襯底/物體上建立涂層。產(chǎn)生的涂層可以是TiN型。在這樣的情況下,大量涂層通過(guò)使用低壓電弧蒸發(fā)從例如由鈦制成的金屬目標(biāo)的表面去除。在使用dc低壓電弧作為材料蒸發(fā)的源的情況下,電弧的燃燒可能是無(wú)法控制的,或者...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。