技術(shù)編號：3245876
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于形成軟磁性膜的Co—Fe—Zr系合金濺射靶材及 其制造方法。背景技術(shù)近年來，磁記錄技術(shù)取得了顯著的進(jìn)步，由于驅(qū)動器的小型化和大容量化，針對磁記錄媒體的高密度化的研究得，u大力發(fā)展。然而，在采用現(xiàn) 在世界上廣泛普及的面內(nèi)磁記錄方式的磁記錄媒體來同時實(shí)現(xiàn)驅(qū)動器的小型化和大容量化時，lbit的記錄所用的領(lǐng)域變小，與周圍的磁區(qū)抵消后 會導(dǎo)致磁力喪失。因此，作為進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)記錄高密度化的方式，開發(fā)出了 垂直磁記錄方式，現(xiàn)在己經(jīng)進(jìn)入實(shí)用化階段。所謂垂直...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。