技術(shù)編號(hào):3243924
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及與選自玻璃、硅、銅和鎳的基底基材相比優(yōu)先選擇性蝕刻設(shè)于前述基材上的選自鈦、鈮、鎢、鑰、釕、銠、砷、鋁和鎵中的金屬、前述金屬的氧化物、前述金屬的氮化物、氮化硅、氮化鉿、氮化鉭或這些的合金的層的方法。背景技術(shù)通常在蝕刻鈦時(shí),使用氫氟酸系的蝕刻液。但,使用氫氟酸系的蝕刻液時(shí),當(dāng)基底為鎳、玻璃時(shí),基底也會(huì)被一起蝕刻。此外,還考慮了在蝕刻鈦時(shí)使用氫氧化鈉溶液的方法,但通過(guò)單獨(dú)使用該蝕刻液,鈦幾乎不被蝕刻,此外,即便為了提高蝕刻速度而組合使用過(guò)氧化氫,蝕刻速...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。