技術(shù)編號(hào)：2967169
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種等梯度加速管，特別涉及離子注入機(jī)中的等梯度加速管，屬于半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域。背景技術(shù)集成電路制造技術(shù)的飛速發(fā)展，對(duì)各半導(dǎo)體工藝設(shè)備提出了更高的要求，作為半導(dǎo)體離子摻雜工藝線的關(guān)鍵設(shè)備之一的離子注入機(jī)也在束流指標(biāo)、束能量純度、注入深度控制、注入均勻性與生產(chǎn)率等方面受到了非常嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。為了獲得更高的能量，離子就需要在加速管中的電場(chǎng)下進(jìn)行加速以得到預(yù)定的能量。在以前傳統(tǒng)的離子注入機(jī)設(shè)備中，大都采用雙單元、單間隙式加速管，此類加速管雖然結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，...
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