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電子束描繪系統(tǒng)、方法、程序及直接描繪制造半導(dǎo)體器件方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2964415

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本發(fā)明涉及直接描繪技術(shù),特別地,涉及用于直接描繪的電子束(EB)描繪裝置,EB描繪方法、EB描繪程序以及使用直接描繪方式的半導(dǎo)體器裝置的制造方法。背景技術(shù) 迄今為止的半導(dǎo)體器件制造的主流,是大量制造DRAM等單一產(chǎn)品的形式,通過(guò)大量生產(chǎn)芯片可以抵消光刻工序中使用的掩模的成本。但是,由于近年來(lái)生產(chǎn)的主流從DRAM等大量少品種型變化為ASIC等的多品種小量批次(批量)型,所以正從使用掩模的現(xiàn)有光刻方式轉(zhuǎn)換為通過(guò)EB描繪裝置進(jìn)行的直接描繪方式。在使用EB描繪裝置...
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  • 高老師:1.電力電子及應(yīng)用 2.嵌入式系統(tǒng)應(yīng)用