技術(shù)編號：2940142
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。干刻蝕底部電極及干刻蝕裝置[0001]本實(shí)用新型涉及一種干刻蝕，尤其涉及一種改進(jìn)的干刻蝕底部電極及干刻蝕裝置。背景技術(shù)[0002]干法刻蝕工藝，是在掩膜曝光后，對基板非金屬進(jìn)行膜刻蝕的過程。若在制造過程中采用了半曝光技術(shù)，在干刻過程中就需要增加對膠的灰化過程。如圖1和2所示，現(xiàn)有技術(shù)中，干刻蝕底部電極的電極底板1上陣列設(shè)置的支撐凸起2 (Embossing)為立方體結(jié)構(gòu)。 如圖3所示，一待灰化的玻璃基板3放置在干刻蝕底部電極上，等待灰化過程。在實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新...
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