技術(shù)編號：2894905
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及對平板顯示器(FPD)制造用的玻璃基板、半導(dǎo)體集成電路(IC)制造用的半導(dǎo)體晶片等被處理體實施等離子體處理的等離子體處理裝置。背景技術(shù)在FPD或IC的制造工序中，使用對玻璃基板、半導(dǎo)體晶片等被處理體實施蝕刻等處理的等離子體處理裝置。作為實施蝕刻等處理的等離子體處理裝置，例如熟知有等離子 體干式蝕刻裝置?？刂铺幚須怏w、高頻輸出的裝置控制器與等離子體干式蝕刻裝置連接。裝置控制器根據(jù)被稱為處理方案的規(guī)定的處理條件，控制處理氣體的流量、高頻輸出、處理時間...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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