技術(shù)編號：2886572
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種用來制造半導體芯片、平面顯示器或者液晶顯示器的等離子體處理裝置，尤其涉及一種等離子體約束裝置以及利用該等離子體約束裝置的等離子體處 理裝置。背景技術(shù)等離子處理裝置利用真空反應(yīng)室的工作原理進行半導體基片和等離子平板的基 片的加工。真空反應(yīng)室的工作原理是在真空反應(yīng)室中通入含有適當刻蝕劑或淀積源氣體的 反應(yīng)氣體，然后再對該真空反應(yīng)室進行射頻能量輸入，以激活反應(yīng)氣體，來點燃和維持等離 子體，以便分別刻蝕基片表面上的材料層或在基片表面上淀積材料層，...
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