技術(shù)編號：2852050
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提供一種處理具有初始線粗糙度和初始臨界尺寸的光致抗蝕劑凸紋特征(402)的方法。所述方法可包含在第一暴露中以第一角范圍和第一劑量率朝向光致抗蝕劑引導(dǎo)離子(404)，所述第一劑量率用以將初始線粗糙度減小到第二線粗糙度。所述方法還可包含在第二暴露中以大于第一劑量率的第二離子劑量率朝向光致抗蝕劑凸紋特征引導(dǎo)離子，其中所述第二離子劑量率用以使光致抗蝕劑凸紋特征膨脹。專利說明用于控制抗蝕劑特征中的臨界尺寸和粗糙度的方法和系統(tǒng)[0001]本發(fā)明的實(shí)施例涉及裝置制...
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