技術(shù)編號(hào)：2850371
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在配置工作物的腔室內(nèi)生成等離子體，在工作物上進(jìn) 行等離子體處理的裝置。背景技術(shù)參照?qǐng)D21說明現(xiàn)有的等離子體處理裝置。這種等離子體處理裝置 具有腔室l，還具有作為高頻率供給裝置的天線部3，覆蓋該腔室的開 口上側(cè)。天線部3包含由鋁合金制成的天線蓋3a、由陶瓷制成的滯波 板3b，和由銅合金制成的天線板3c。在天線板3c上作出細(xì)長通孔的 多個(gè)隙縫孔20。另外，在天線部3和腔室1之間配置由石英或陶瓷等 介電體制成的頂板15。這里，稱為"頂板"有時(shí)稱為"介電...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。