技術(shù)編號(hào)：2839304
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬光刻設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種照明裝置。 背景技術(shù)光刻機(jī)系統(tǒng)中用到很多的對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，如掩模精預(yù)對(duì)準(zhǔn)和掩模CHUCK對(duì) 準(zhǔn)，其對(duì)準(zhǔn)精度需要實(shí)現(xiàn)微米級(jí)別，通常采用的方法如圖1所示直接使用 LD激光器光源或LED光源照射到某個(gè)特定的標(biāo)記上，在標(biāo)記的正下方使用 四象限探測(cè)器探測(cè)光強(qiáng)，在標(biāo)記運(yùn)動(dòng)的過程中，四象限探測(cè)器探測(cè)出光強(qiáng)的 變化，通過算法將光強(qiáng)的變化量轉(zhuǎn)換成標(biāo)記的位置變化量。這種方法的缺點(diǎn) 是照明均勻性差、光功率低，導(dǎo)致對(duì)準(zhǔn)精度差。有鑒于此，如何解決上述方法...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。