技術(shù)編號(hào)：2818369
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種重力補(bǔ)償器，特別涉及一種光刻技術(shù)中的重力補(bǔ)償器。 背景技術(shù)近代半導(dǎo)體科技發(fā)展迅速，其中光刻技術(shù)扮演了重要的角色。光刻技術(shù)在 半導(dǎo)體的應(yīng)用上，是將設(shè)計(jì)好的線路制作成具有特定形狀可透光的掩模，利用 曝光原理，使光源通過掩才^1影至硅晶片上，可曝光顯示特定的圖案。隨著大規(guī)模集成電路器件集成度的不斷提高，光刻分辨力的不斷增強(qiáng)，對(duì) 光刻機(jī)的特征線寬指標(biāo)要求也在不斷提升。目前，光刻機(jī)已經(jīng)發(fā)展成為幾個(gè)分以工件臺(tái)分系統(tǒng)為例，如何使Chuck微動(dòng)臺(tái)在曝光過程中...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。