技術(shù)編號：2817750
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。 背景技術(shù)光刻裝置是將所需圖案應(yīng)用于基底上通常是基底靶部上的一種 裝置。光刻裝置是可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況 下，構(gòu)圖部件或者可稱為掩?；蛑虚g掩模版，它可用于產(chǎn)生形成在 IC的一個單獨(dú)層上的電路圖案。該圖案可以被傳遞到基底(例如硅 晶片)的靶部上(例如包括一部分， 一個或者多個管芯)。通常這種 圖案的傳遞是通過成像在涂敷于基底的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上。 一般地，單一的基底將包含相繼構(gòu)圖的相鄰...
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