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微影裝置及微影裝置的平衡晶片的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2817745

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本發(fā)明涉及一種微影裝置,特別涉及一種微影工藝中平衡半導(dǎo)體晶片的方法。背景技術(shù)于半導(dǎo)體晶片上制作集成電路運(yùn)用到許多的技術(shù),其中使用紫外線的光 學(xué)投影微影工藝是制作半導(dǎo)體常用的技術(shù)。投影微影技術(shù)會(huì)使用比集成電路 大數(shù)倍的光罩,電路圖案經(jīng)由光罩投射于半導(dǎo)體晶片上。圖1A 1C示出了一現(xiàn)有SUSS曝光機(jī)的平衡機(jī)制。請(qǐng)參照?qǐng)D1A,此現(xiàn) 有的SUSS曝光機(jī)使用楔形誤差補(bǔ)償技術(shù)(wedge error compensation, WEC) 平衡晶片102,其包括設(shè)置于夾...
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