技術(shù)編號(hào):2817745
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種微影裝置,特別涉及一種微影工藝中平衡半導(dǎo)體晶片的方法。背景技術(shù)于半導(dǎo)體晶片上制作集成電路運(yùn)用到許多的技術(shù),其中使用紫外線的光 學(xué)投影微影工藝是制作半導(dǎo)體常用的技術(shù)。投影微影技術(shù)會(huì)使用比集成電路 大數(shù)倍的光罩,電路圖案經(jīng)由光罩投射于半導(dǎo)體晶片上。圖1A 1C示出了一現(xiàn)有SUSS曝光機(jī)的平衡機(jī)制。請(qǐng)參照?qǐng)D1A,此現(xiàn) 有的SUSS曝光機(jī)使用楔形誤差補(bǔ)償技術(shù)(wedge error compensation, WEC) 平衡晶片102,其包括設(shè)置于夾...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。