技術(shù)編號：2817733
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種分離顯影液廢液與DI水的分離裝置 及分離方法。背景技術(shù)光阻覆蓋顯影機(jī)需要顯影液來實(shí)現(xiàn)顯影，但是實(shí)現(xiàn)顯影之后將會產(chǎn)生顯影液廢 液，同時，為了清理多余的顯影液還需要DI水來進(jìn)行清洗?，F(xiàn)有的光阻顯影系統(tǒng)中的顯影 液廢液與沖洗用的DI水是經(jīng)由一根排放管道排放到廠務(wù)系統(tǒng)中去的，如圖1所示,在圖1中，管道i與管道2中是[)i水，管道3中是顯影液廢液，這三個管道中的液體都先經(jīng)過同一個管道4，再經(jīng)過排放管道5排出。這使得兩種液體混在一...
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