技術(shù)編號(hào)：2811624
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。一般地，本發(fā)明具體實(shí)施方式涉及基片顯影方法，和實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。 更具體地，這些具體實(shí)施方式涉及通過將顯影液供給至基片上，使基片顯影的 方法，及實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體或平板顯示器加工工藝中，可通過光刻法在諸如半導(dǎo)體晶片和玻 璃基片之類的基片上形成電路圖形。光刻技術(shù)包括涂層處理，將光致抗蝕劑組合物施加至基片上以在基片上 形成光致抗蝕劑膜；烘烤處理，使光致抗蝕劑膜硬化；曝光處理，將掩膜的電 路圖樣轉(zhuǎn)錄到光致抗蝕劑膜上；以及顯影處理，使用顯影液在基片...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。