技術(shù)編號：2811438
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域， OpticalProximity Correction)方法。尤其涉及光學(xué)臨近效應(yīng)修正(OPC，背景技術(shù)在半導(dǎo)體制程中，為將集成電路(IC， Integrated Circuit)的電路圖案轉(zhuǎn)移至半 導(dǎo)體芯片上，需將集成電路的電路圖案設(shè)計為掩膜版圖案，再將該掩膜版圖案從掩膜版表 面轉(zhuǎn)移至半導(dǎo)體芯片。 然而隨著集成電路特征尺寸縮小，以及受到曝光機臺(OET， Optical E鄧osureTool)的分辨率極限(Resolutio...
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