技術(shù)編號(hào)：2811435
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。-種用于納米壓印的含氟硅低表面能材料及其制備方法本發(fā)明涉及含氟硅低表面能材料，具體的說，是一種用于納米壓印的含氟硅低表面能材料及其制備方法。背景技術(shù)納米壓印技術(shù)是為了適應(yīng)集成電路技術(shù)的迅猛發(fā)展，光學(xué)光刻很難突破分辨率極限的情況下應(yīng)運(yùn)而生的一種制備微電子元件的新興技術(shù)，其技術(shù)價(jià)格相對(duì)低廉、工藝相對(duì)簡(jiǎn)單，可以制備特征尺寸為幾納米的極小結(jié)構(gòu)，在信息存儲(chǔ)、生物傳感器和亞波長(zhǎng)光學(xué)器件領(lǐng)域，已成為價(jià)格相對(duì)較低、性能可靠、具有量產(chǎn)能力的制備技術(shù)。在2004和2005年召...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。