技術(shù)編號：2810993
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。清潔設(shè)備和浸^fe刻設(shè)備獄領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種清潔設(shè)備和浸沒式光刻設(shè)備。 背景獄0001光刻設(shè)備是一種將所需的圖案施加于襯底上，通常是施加于襯底的目標(biāo)部分上的機(jī)器。光刻設(shè)備例如可用于集成電路(ic)的制造。在那種情況 下，可淑也被稱為掩?；蜓赹l^的圖案形成裝置可用來生成在ic單個層上形成的電路圖案。該圖案可被轉(zhuǎn)移到襯底(例如硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括 一部分、 一個或更多個管芯)。圖案典型地借助于成像轉(zhuǎn)移至設(shè)在襯底上的輻射 敏感材料(抗蝕劑)層上。通常...
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