技術(shù)編號：2808836
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種儲(chǔ)放及/或運(yùn)送裝置，特別是涉及一種有關(guān)于光掩模的 儲(chǔ)放及/或運(yùn)送裝置。背景技術(shù)光掩模用以在微影制程(Photolithography Process)中將特定的電路 設(shè)計(jì)圖案透過制程步驟使其成像于一基板(例如半導(dǎo)體晶圓)上，以形成一 集成電路的特征。 一般光掩模包括有一透明基材，其具有一客戶所設(shè)計(jì)或 要求的特定電路圖案于透明基材上，因而光線可通過透明基材的特定電路 圖案，以提供特定電路圖案成像于基板(例如半導(dǎo)體晶圓)上。通常光掩模 在制程過程...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。