技術編號：2803880
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光刻機，涉及一種光刻機投影物鏡波像差檢測技術，尤其涉及一種。背景技術光刻機是制造極大規(guī)模集成電路最為關鍵的設備。投影物鏡作為光刻機的最重要組成部分之一，它的成像質量直接決定光刻機的性能。當投影物鏡有波像差存在時，將降低光刻成像對比度，導致光刻工藝窗口的縮小。國際上，通常使用一組正交的37階澤尼克多項式表征波像差，這37階澤尼克多項式可以按奇偶分為兩類。其中，以彗差、三波差為代表的奇像差會引起空間像的成像位置偏移，并導致空間像對稱位置的特征尺寸⑶(...
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