技術(shù)編號(hào)：2801509
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型屬于光學(xué)檢測、光學(xué)記錄、激光系統(tǒng)等，具體涉及用于光學(xué)系統(tǒng)檢測的換位機(jī)構(gòu)。本實(shí)用新型能夠應(yīng)用于光學(xué)零件面形檢測、光學(xué)系統(tǒng)像差測量、激光輸出波前實(shí)時(shí)測試等，尤其適用于光刻設(shè)備中的光學(xué)系統(tǒng)和光學(xué)器件的檢測。背景技術(shù)在光學(xué)系統(tǒng)或設(shè)備中，能經(jīng)常需要對光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)設(shè)備或其所包括的光學(xué)器件進(jìn)行各種參數(shù)的檢測，例如像差檢測等。以光刻機(jī)為例，其核心是一套高精度的投影成像系統(tǒng)。而由于波像差的存在會(huì)影響投影成像的精確度，從而影響光刻加工的質(zhì)量。目前，光刻機(jī)的像差檢測...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。