技術(shù)編號(hào):2799291
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及,更詳細(xì)而言,涉及經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)通過(guò)能量束而將物體曝光的曝光裝置及曝光方法,以及使用該曝光裝置或曝光方法的設(shè)備制造方法。背景技術(shù)傳統(tǒng)上,在用于制造諸如半導(dǎo)體設(shè)備(集成電路等)或液晶顯示器元件的電子設(shè)備(微型設(shè)備)的光刻工藝中,主要使用諸如利用步進(jìn)和反復(fù)方法的投影曝光裝置(所謂的步進(jìn)機(jī)),或者利用步進(jìn)和掃描方法的投影曝光裝置(所謂的掃描步進(jìn)機(jī)(還被稱為掃描儀))的曝光裝置。在這些類型的曝光裝置中,通常使用激光干涉儀來(lái)測(cè)量移動(dòng)的晶片載臺(tái)的位置, 該晶片...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。