技術(shù)編號:2797824
提示:您尚未登錄,請點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體微電子及PCB制作的設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及到一種同時(shí)可實(shí)現(xiàn)多槽顯影的裝置。背景技術(shù)隨著電子工業(yè)與各類自動(dòng)控制儀器的飛速發(fā)展,尤其是大規(guī)模集成電路的應(yīng)用與超小儀器的設(shè)計(jì);目前,在半導(dǎo)體微電子及PCB制作過程中起到圖形曝光成像后顯影功能的設(shè)備,其只有單一槽體進(jìn)行單塊顯影物的操作,不能使多塊顯影物同時(shí)進(jìn)行顯影功能;在使用時(shí)受到一定的局限性,對生產(chǎn)和學(xué)習(xí)造成一定的影響,且不能對顯影物進(jìn)行溫度及一些相關(guān)數(shù)據(jù)進(jìn)行全部監(jiān)控。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。