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形成抗蝕劑下層膜的組合物的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2796755

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本發(fā)明涉及在半導(dǎo)體裝置的制造過程中,對(duì)形成設(shè)置在抗蝕劑膜與基 板之間的抗蝕劑下層膜有用的組合物。在抗蝕劑下層膜在制造半導(dǎo)體裝置 時(shí)的光刻中顯示抑制入射波反射所產(chǎn)生的反射波的效果的情況下,將該抗 蝕劑下層膜稱為防反射膜。背景技術(shù)近年來,人們合成了對(duì)有機(jī)溶劑的溶解度高于C60富勒烯的富勒烯衍 生物。通過使用這樣的富勒烯衍生物溶解在有機(jī)溶劑中而成的溶液,能夠容易地在基板上形成薄膜。因此,人們研究了將富勒烯衍生物應(yīng)用于n型 有機(jī)薄膜晶體管、太陽(yáng)能電池等中。富勒烯衍...
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