技術(shù)編號：2795936
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納加工領(lǐng)域，具體涉及一種雙固化型的納米壓印傳遞層材料。 背景技術(shù)納米壓印技術(shù)(已公開美國專利US6180239)是上世紀(jì)九十年代中期美國 Princeton大學(xué)Nanostructure Lab的Y. Chou教授針對傳統(tǒng)的光刻工藝受到曝光波長的限制，已經(jīng)達(dá)到制備微小結(jié)構(gòu)的極限廣30nm)，無法進(jìn)一步獲得更小的尺寸，而提出了類似于高分子模壓的一種技術(shù)，并且成功證明通過這一技術(shù)可以在半導(dǎo)體硅片上獲得尺寸小于IOnm的結(jié)構(gòu)單元。納米壓印是一種物理接...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。