技術(shù)編號：2795151
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及適合包括例如248nm、193nm和157nm的亞-300nm和亞-200nm的短波長成像的新光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明的光致抗蝕劑可以表現(xiàn)出與SiON和其它無機(jī)表面層有效的粘附性。優(yōu)選本發(fā)明的光致抗蝕劑包含具有光酸不穩(wěn)定基團(tuán)的樹脂，一種或多種感光酸生成劑化合物和一種增粘添加劑化合物。背景技術(shù) 光致抗蝕劑是用于將圖像傳遞到基底上的感光膜。一層光致抗蝕劑涂層在基底上形成，然后將該光致抗蝕劑層通過光掩模曝光于激活輻射源。光掩模具有對激活輻射不透明的區(qū)域...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。