技術(shù)編號(hào)：2793826
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種形成有電子束光阻膜和有機(jī)導(dǎo)電性膜的被加工基板(加工用前驅(qū)體基板)、所述被加工基板的制造方法及采用了所述被加工基板來(lái)進(jìn)行的光阻圖案的形成方法，所述被加工基板具有金屬膜或金屬化合物膜，所述金屬膜或金屬化合物膜是通過(guò)電子束光刻法(lithography)進(jìn)行微細(xì)加工而成；本發(fā)明特別涉及一種空白光罩(photo mask blank (光罩基材))，其形成有電子束用光阻膜和有機(jī)導(dǎo)電性膜，所述空白光罩用以制造光罩，所述光罩是用于半導(dǎo)體集成電路、(XD(...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。