技術(shù)編號(hào):2790750
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及壓印設(shè)備以及使用該壓印設(shè)備制造物品的方法。 背景技術(shù)壓印技術(shù)正作為意圖用于磁存儲(chǔ)介質(zhì)和半導(dǎo)體器件的批量生產(chǎn)的一種類型的光刻技術(shù)而投入使用。形成納米量級(jí)的圖案的壓印技術(shù)被稱為納米壓印技術(shù)。壓印技術(shù)涉及被壓在樹脂上的、其上形成有圖案的模子(原版),其中所述樹脂被涂布在諸如硅晶片 (wafer)或玻璃板之類的基板上。在該狀態(tài)下固化樹脂,由此將圖案轉(zhuǎn)印到基板上。傳統(tǒng)的壓印方法引起如下的問(wèn)題,即用樹脂填充模子上形成的圖案的凹陷部分要花費(fèi)長(zhǎng)的時(shí)間,以及如果在...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。