技術(shù)編號：2790526
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體集成電路設(shè)備中的光刻機，特別涉及應(yīng)用于光刻機中的。背景技術(shù)在大規(guī)模半導(dǎo)體集成電路的前端制造設(shè)備中，光刻機是最復(fù)雜、要求最高的設(shè)備，集光機電技術(shù)于一身，尤其是對機械系統(tǒng)的精密性與穩(wěn)定性的要求幾乎達(dá)到了極限。為了達(dá)到精密性與穩(wěn)定性的要求，在光刻機的設(shè)計和生產(chǎn)過程中，需要重視很多方面的問題。在光刻設(shè)備中，投影物鏡是ー種高精密的光學(xué)成像系統(tǒng)，要求實現(xiàn)細(xì)微圖形的像 的轉(zhuǎn)移，對投影光學(xué)系統(tǒng)的波相差或畸變提出了嚴(yán)格的要求，為了減少波相差或畸變，需要預(yù)先測...
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