技術(shù)編號：2790043
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，尤其涉及壓印的一種。背景技術(shù)半導(dǎo)體技術(shù)在摩爾定律的驅(qū)動下持續(xù)地朝更小的エ藝節(jié)點邁進(jìn)。隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步，器件的功能不斷強(qiáng)大，但是半導(dǎo)體制造難度也與日俱增。而光刻技術(shù)是半導(dǎo)體制造エ藝中最為關(guān)鍵的生產(chǎn)技術(shù)，隨著半導(dǎo)體エ藝節(jié)點的越來越低，現(xiàn)有的193nm的ArF光源光刻技術(shù)已經(jīng)無法滿足半導(dǎo)體制造的需要，超紫外光光刻技術(shù)(EUV)、多波束無掩膜技術(shù)和納米壓印技術(shù)成為下一代光刻候選技術(shù)的研究熱點。但是上述的下一代光刻候選技術(shù)仍然存在有不便...
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