技術(shù)編號：2781957
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是關于使用全息照相等曝光技術(shù)的精細加工，更詳細講，是關于使曝光掩模與成為曝光對象的對象體進行對位的方法，以及使用該方法的薄膜元件基板的制造方法。背景技術(shù) 近年來，在半導體裝置的圖案形成工序中，TIR(Total InternalReflection全內(nèi)部反射)型全息照相曝光技術(shù)廣受觀注，該曝光技術(shù)使用全息照相曝光裝置，采用由對全息照相掩模記錄所要求圖案的記錄工序、和對該全息照相掩模照相再生光，對半導體圖案用的光致抗蝕劑層進行感光的曝光工序構(gòu)成的方法。...
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