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掃描曝光方法以及裝置制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2781723

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本發(fā)明涉及掃描曝光設(shè)備的掃描曝光方法以及使用該掃描曝光設(shè)備的裝置制造方法,尤其涉及適于曝光大掩膜的曝光設(shè)備。背景技術(shù) 近期的顯示器,如個(gè)人計(jì)算機(jī)(“PC”)的顯示器和電視機(jī)的顯示器,經(jīng)常使用液晶顯示(“LCD”)基片。LCD基片使用光刻法在玻璃板片上形成預(yù)定形狀的帶有圖形的透明薄膜電極,并且光刻法使用投影曝光設(shè)備,用于將形成于掩膜上的原始圖形通過投影光學(xué)系統(tǒng),曝光在玻璃板片的光刻膠層上。投影光學(xué)設(shè)備包括那類所謂的“分步重復(fù)”及鏡面投影方式。隨著近期對(duì)大LC...
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