技術(shù)編號(hào)：2780129
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種正型光致抗蝕劑剝離劑組合物，它對(duì)經(jīng)蝕刻處理等而變質(zhì)的光致抗蝕劑圖形膜具有優(yōu)異的溶解性和剝離性，并與水混合后用作清洗液(rinse)時(shí)，對(duì)鋁或銅基板的腐蝕小、蒸發(fā)量少，因而不僅對(duì)作業(yè)環(huán)境有利，而且安全性高，且可用水進(jìn)行清洗處理，特別是低溫剝離性能優(yōu)異，因此具有很高的實(shí)用性。背景技術(shù) 一般情況下，晶體管、集成電路(IC)、大規(guī)模集成電路(LSI)、超大規(guī)模集成電路(VLSI)等半導(dǎo)體裝置(Device)和液晶顯示裝置是通過光蝕刻法制備的。例如，半...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。