技術(shù)編號:2778599
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及自動設(shè)計裝置,尤其涉及采用斜布線的自動設(shè)計裝置、自動設(shè)計方法以及可用其制造的中間掩模組(reticle set)、半導(dǎo)體集成電路。背景技術(shù) 隨著半導(dǎo)體集成電路微細化的進展,在硅襯底上按設(shè)計加工半導(dǎo)體器件越來越難。因此,想各種辦法用于按設(shè)計加工,同時還從提高成品率和可靠性的角度采取各種措施。制作使用0.2μm以下的微細圖案布線的集成電路器件的掩模時,廣泛應(yīng)用圖案疏密帶來的鄰光效應(yīng)校正(OPC)。對處在圖案稀疏區(qū)的“孤立布線圖案”擴大中間掩模的布線圖...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。