技術(shù)編號:2772581
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及平版印刷,更具體地說,本發(fā)明涉及在用于深紫外光(DUV)和遠(yuǎn)紫外光(EUV)平版印刷成象的光致抗蝕劑膜中,基本上使高吸收率(低透明度)的有害作用最小化的方法。更具體地說,本發(fā)明涉及利用在底層中產(chǎn)生的光致酸的垂直擴(kuò)散,來改善半透明化學(xué)增強(qiáng)的抗蝕劑中圖象性能和抗蝕劑輪廓。背景技術(shù)半導(dǎo)體工業(yè)中,希望利用平版印刷技術(shù)制成的微電子設(shè)備中具有更高的電路密度。歷史上,通過波長縮放比例(降低成像輻射的波長)、改善成象光學(xué)系統(tǒng)(使用具有更大數(shù)值的光圈的透鏡)和使用...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。