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用于短波長(zhǎng)光的負(fù)型光致抗蝕劑組合物及其形成圖像的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2769281

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本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造過(guò)程中的照相平版印刷方法,具體地說(shuō),涉及一種適合于使用短波長(zhǎng)光如ArF激態(tài)準(zhǔn)分子激光作為曝光光源的照相平版印刷術(shù)中所用的負(fù)型光致抗蝕劑組合物,以及使用該組合物形成圖像的方法。在各種類(lèi)型的電設(shè)備制造領(lǐng)域中,具代表性的一種是半導(dǎo)體設(shè)備,對(duì)設(shè)備要求具有較高的密度和較高的集成度。為此目的,需要半微米數(shù)級(jí)的精細(xì)加工過(guò)程。因此,照相平版印刷技術(shù)用于形成精確圖像的需求變得越來(lái)越強(qiáng)烈。形成這種精確圖像的一種方法是圖像應(yīng)當(dāng)通過(guò)使用光致抗蝕劑形成時(shí),使...
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