技術(shù)編號：2769023
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景本說明書涉及光刻系統(tǒng)、方法和技術(shù)中的成像和器件(device)。光刻是將特征繪制(render)在一般平坦的表面上的工藝。特征可以使用光刻掩模(mask)(也被稱為“掩模版(reticle)”)來繪制，所述光刻掩模調(diào)制由電磁輻射進行的工件表面的曝光。通過掩模調(diào)制的輻射，投影在工件上的圖像在光敏介質(zhì)中被儲存為潛像(latent image)。在另外的處理之后，潛像轉(zhuǎn)變?yōu)樵谶M一步的處理中使用的工件上的特征。例如，這樣的特征可以被用來在半導(dǎo)體晶片上形成集成電...
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