技術(shù)編號：2760901
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及使用光刻掩模來制造諸如集成電路的物體的小尺寸圖形(features)。更具體地，本發(fā)明涉及用于集成電路和類似物體的復(fù)雜布局的相移掩模以及接近校正，其中包括但不限于光學(xué)接近校正和蝕刻接近校正。背景技術(shù) 相移掩模已經(jīng)被用來創(chuàng)建集成電路中的小尺寸圖形。典型地，所述圖形已經(jīng)局限于具有小的關(guān)鍵尺寸的設(shè)計圖樣的所選器件。例如，參見美國專利第5,766,806號。雖然在集成電路中的小尺寸圖形的制造已經(jīng)帶來了改進(jìn)的速度和性能，但是期望在這樣的器件的制造中更為廣泛...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。