技術編號：2759604
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種環(huán)境控制系統(tǒng)，具體的講是涉及一種光刻設備環(huán)境控制系統(tǒng)。技術背景在半導體生產領域，硅片曝光是光刻設備將掩模版上的集成電路圖形印刷到硅片上的過程。曝光過程中，光刻設備運行時對其內部的溫度恒定性和空氣潔凈度有嚴格的要求。如果光刻設備運行時，其內部的溫度產生漂移，則使半導體芯片的套刻精度降低；而光刻設備的空氣潔凈度低時，直接影響半導體芯片的良品率。為此，要采用溫度控制系統(tǒng)對光刻設備進行恒溫控制?，F(xiàn)有技術的溫度控制系統(tǒng)， 如圖1所示，該溫度控制系統(tǒng)由熱...
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