技術(shù)編號(hào)：2758061
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及檢測(cè)形成于掩模的掩模對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和形成于工件的工件對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，以使 二者成為預(yù)先設(shè)定的位置關(guān)系的方式進(jìn)行對(duì)位，并經(jīng)掩模對(duì)工件照射光的曝光裝置中的用 于檢測(cè)工件，特別是涉及在作為工件對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記使用形成于印刷基板等 的工件的圓形的凹陷的情況下的工件。背景技術(shù)在利用光刻法制造半導(dǎo)體元件、印刷基板、液晶基板等的圖案的工序中使用曝光 裝置。曝光裝置使形成有掩模圖案的掩模和該圖案所要被轉(zhuǎn)印的工件以預(yù)定的位置關(guān)系對(duì) 位(對(duì)準(zhǔn))，然后，經(jīng)掩模對(duì)涂布有抗蝕劑的工件照射曝光...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。